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半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理

产品时代背景 该半导体材料品牌地处长四角地段,重要生产方式加工849英寸和1249英寸晶圆,日排出废蓄水量约2000吨。是因为生产方式加工工序繁复,废水里面的有多个难挥发充分物和血本属阳离子,传统与现代治理 办法无法满足需要必将严要求的排出标准化。 生产废水材质及来历 污焦化废液 处理具体来体现了于四种方面:晶圆切污焦化废液 处理包含更多硅粉和切液杂质;电学机诫增加光泽污焦化废液 处理包含的橡胶胶体部分硅和研磨机粒状;刻蚀清洁工作污焦化废液 处理包含氟化物、铜化合物等血本属;光刻技艺污焦化废液 处理则包含光阻剂等有机会被污染的物。土质结构特征是COD高(800-1500mg/L)、氟化物酸度高(200-400mg/L)、悬浮物物多且包含氢化物发生器血本属。 进行处理生产工艺具体流程 适用"物理预治理+什么是生化治理+深层次治理"的组装技艺: 控制池动态平衡污水水质供水量 混泥土乳浊液剔除浮动物和溶液有机物 电化学析出法主要治理 氟化物,污泥脱水钙盐生成氟化钙析出 电离硝化作用池增进废水处理工艺可生化学性 交往钝化池光降解有机会影响物 抗逆性炭吸塔完成深度的进行处理 膜提取系统保持有水出污水水质维持 造成含铜污废水 分次设计亚铁离子调换体统,回收利用有总价值的轻金属铜。 决定疗效 的项目建设后开机运行安全,出液COD<50mg/L,氟化物浓硫酸含量<5mg/L,铜铝离子浓硫酸含量<0.3mg/L,多种完成指标均依赖于国家地区《微电子轻工业水造成的污渍污染物量标准》(GB 39731-2020)。历年可减小COD污染物量约300吨,氟化物污染物量约50吨,收购铜废金属约2吨,达成了情况城市发展收益与城市发展城市发展收益的互利共赢。

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