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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造出厂应用于华东位置位置,基本生產8寸大半导体设备晶圆,平均工作废水的消耗量上涨约800吨。考虑到生產进程中选择大量的盐酸参与晶圆蚀刻,引致工作废海里氟化物浓度值可高达200-300mg/L,远超一个国家的废气条件(10mg/L下)。 废水处理方法成份及来自 污废水 通常是来自于三种步骤: 晶圆蚀刻生产工艺 :含容液值氟化物(HF)、硝酸银及少许天价属 电学机械制造抛光处理(CMP)工业废水 :含納米级硅颗粒肥料、有机会络合剂 专用设备洗掉废水处理方法 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机酸物 外理工序方案 采取"生物凝固+沥青混凝土凝固+广度油烟净化器"二级处置体系: 4级解决 :污泥脱水氯化钙和氢脱色钙,形成了氟化钙沉定,氟化物除去率达85% 三级清理 :获取PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),去掉悬浊液态废弃物物 3级工作 :根据多媒介滤出器和活性氧炭吸出,喷水氟化物含量维持在8mg/L以上 重点的设备比如:pH定时控制控制系统、斜管析出池、板框刮刀离心机(工业废水脱水怎么办)。 决定成果 楼盘运营两年监测技术大数据显示信息: 氟化物均衡浓度值:7.2mg/L(少于国家的标) COD除去率:92% 淤泥含水分率:≤65% 年回报氟化钙副產品约150吨,保持市场化凭借

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