半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
创业项目经验
该企业技术生产制造半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,废水治疗方法氟密度不高且的成分有难度。原来的治疗新工艺的效果不比较稳定,氟化物污染物常常超量。业务投入资金21000万元修建好一点治疗配套设施,设计构思治疗作用500吨/天。
污废水 成份及来源地
焦化废水注意是来自于产生设备除垢和工业废气清洗:
氟正离子溶液浓度:1500-3500mg/L
含硝酸钠根阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含进样器钨、钼等塑料营养元素
操作施工工艺方案
专门针对高质量浓度特质,进行"采和+多级别凝固+膜操作"技艺:
污水采集而来池:进行分类采集而来多种溶液浓度污水
与反馈池:分关键时期添加氢钝化反应钠和氢钝化反应钙,设定最中pH至7.5-8.
二沉池影响池:污泥脱水PAC和PAM减弱石雕文化沉淀治疗效果
斜管凝固池:效率固液离心分离
多导电介质过滤程序器:快速清理体积小顆粒
反渗透设备到整体:层次脱盐和除氟
厌氧颗粒污泥干化原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 缺水平台:离心力缺水后厌氧颗粒污泥干化清运专业的处里
手机在线检测数据整体:24小时监控视频氟正离子渗透压和pH值
终极特效
操作操作系统正常运行数据显示:
浸水氟正离子月均有机废气浓度:2800mg/L
出液氟铁离子渗透压:3.2mg/L(总值)
氟清理率:99.9%综上所述
水使用率:做到65%
设计全自动化机械的情况高,实现目标焦化废水加工代价降底30%,年收购 氟化钙加工品设备约400吨。